图片
设为首页加入收藏
导航菜单
全站搜索
产品详情
电子光学工业用水

一、应用范围                                

晶体半导体、集成电路芯片、计算机硬盘、显示器、液晶显示制造过程中的纯水、超纯水                             

二、产水水质

项目

设备产水水质

TOC

<10ppb

电导率

<200pcs/1

硬度

≈0μmol/L

二氧化硅

<3ppb

电阻率

≥18MΩ·cm

                                

        

美国半导体工业用纯水指标

项目

I级

II级

III级

IV级

TOC,mg/L

0.02

0.05

0.1

0.4

颗粒,粒/L

500

1000

2500

5000

细菌数,个/100mL

0

6

10

50

活性硅SiO2,μg/L

3

5

10

40

电阻率,MΩ·cm

18.2

17.9

17.5

17

注:

中国国家电子超纯水规格GB/T1146.1-1997

指标  级别

EW-I

EW-II

电阻率,MΩ·cm(25℃)

18以上(95%时间)不低于17

15(95%时间)不低于13

硅,μg/l

2

10

>1μm微粒数,个/ml

0.1

5

细菌个数,个

0.01

0.1

总有机碳,μg/l

20

100

三、典型工艺流程    

预处理+双级反渗透主机+EDI+抛光混床+终端过滤

图片
脚注信息
版权所有 Copyright(C)2009-2010杭州美浪环保科技有限公司
浙ICP备11040450号-1